Bakit inalis ng TOP 5 wafer fabrication plants sa mundo ang cast iron? Pagsusuri ng Zero-Pollution Advantage ng Granite Platforms sa Cleanroom Environment.

Sa larangan ng pagmamanupaktura ng semiconductor, ang kalinisan ng kapaligiran ng malinis na silid ay direktang nakakaapekto sa rate ng ani ng produksyon ng wafer at ang pagganap ng mga chips. Ang TOP 5 wafer fabrication plants sa mundo ay inalis na lahat ang mga tradisyonal na cast iron na materyales at lumipat sa mga granite platform. Sa likod ng pagbabagong ito ay nakasalalay ang pinakahuling hangarin ng isang zero-pollution na kapaligiran sa mga cleanroom. Ang mga granite platform, na may sariling mga katangian, ay nagpakita ng walang kapantay na mga pakinabang sa mga malinis na silid at naging bagong paborito ng mga planta ng paggawa ng wafer.

Ang "nakamamatay na depekto" ng mga materyales ng cast iron sa malinis na mga silid
Ang cast iron, bilang isang tradisyunal na materyal na pang-industriya, ay minsan ay may ilang mga pakinabang sa mga mekanikal na katangian, ngunit mayroon itong maraming mga problema sa kapaligiran ng semiconductor cleanroom. Una, ang microstructure sa ibabaw ng cast iron ay hindi siksik, na may malaking bilang ng mga pores at maliliit na bitak na hindi nakikita ng mata. Sa pang-araw-araw na operasyon ng mga malinis na silid, ang mga pores na ito ay lubhang madaling sumipsip ng alikabok, mantsa ng langis at iba't ibang mga pollutant ng kemikal, na nagiging mga taguan para sa mga pinagmumulan ng polusyon. Kapag naipon ang mga contaminant, sa panahon ng mga tiyak na operasyon ng pagmamanupaktura ng wafer, maaari silang mahulog at dumikit sa ibabaw ng wafer, na magdulot ng malubhang problema sa kalidad tulad ng mga short circuit at open circuit sa chip.
Pangalawa, ang cast iron ay medyo mahina ang katatagan ng kemikal. Sa panahon ng proseso ng pagmamanupaktura ng wafer, ginagamit ang iba't ibang corrosive chemical reagents tulad ng hydrofluoric acid at sulfuric acid. Ang cast iron ay madaling kapitan ng oksihenasyon at mga reaksyon ng kaagnasan sa ilalim ng pagguho ng mga kemikal na ito. Ang mga kalawang at metal na ion na ginawa ng kaagnasan ay hindi lamang nagpaparumi sa kapaligiran ng malinis na silid ngunit maaari ring sumailalim sa mga kemikal na reaksyon sa mga materyales sa ibabaw ng wafer, na nakakasira sa pisikal at kemikal na mga katangian ng mga wafer at makabuluhang binabawasan ang ani ng produkto.
Ang tampok na "zero-pollution" ng mga granite platform
Ang dahilan kung bakit ang mga granite platform ay pinapaboran ng TOP 5 wafer fabrication plants sa mundo ay nakasalalay sa kanilang likas na tampok na "zero-pollution". Ang granite ay isang natural na bato na nabuo sa pamamagitan ng mga prosesong geological sa daan-daang milyong taon. Ang mga panloob na mineral na kristal nito ay malapit na na-kristal, ang istraktura ay siksik at pare-pareho, at halos walang mga pores sa ibabaw. Tinitiyak ng kakaibang istraktura na ito na hindi ito mag-adsorb ng alikabok at mga kontaminante. Kahit na sa madalas na abala sa daloy ng hangin at mga aktibidad ng mga tauhan at kagamitan sa malinis na silid, ang ibabaw ng granite na platform ay maaari pa ring manatiling malinis, na pumipigil sa pagdami at pagkalat ng mga kontaminant.
Sa mga tuntunin ng katatagan ng kemikal, ang granite ay gumaganap nang mahusay. Ang mga pangunahing bahagi nito ay mga mineral tulad ng quartz at feldspar. Ito ay may lubos na matatag na mga katangian ng kemikal at halos hindi tumutugon sa anumang karaniwang mga kemikal na reagents. Sa kumplikadong kemikal na kapaligiran ng pagmamanupaktura ng wafer, ang mga granite na platform ay madaling hawakan ang pagguho ng iba't ibang mga corrosive reagents nang madali, nang walang pagbuo ng mga produkto ng kaagnasan o polusyon ng metal ion, na nagbibigay ng ligtas at malinis na pangunahing plataporma para sa paggawa ng wafer. Samantala, ang granite ay non-conductive at hindi gumagawa ng static na kuryente, kaya iniiwasan ang panganib ng polusyon na dulot ng static na kuryente na sumisipsip ng mga particle ng alikabok at higit na tinitiyak ang kalidad ng kapaligiran ng malinis na silid.
Pagpili ng materyal mula sa pananaw ng gastos at benepisyo
Bagama't ang paunang gastos sa pagkuha ng mga granite platform ay medyo mas mataas kaysa sa mga cast iron, sa katagalan, ang mga komprehensibong benepisyo na dala ng mga ito ay higit na lumampas sa pagkakaiba sa gastos. Ang madalas na paglilinis at pagpapanatili ng mga cast iron platform dahil sa mga problema sa polusyon, pati na rin ang malaking pagkalugi na dulot ng pagtaas ng mga rate ng depekto ng produkto, ay nagpapanatili sa pangkalahatang gastos sa produksyon na mataas. Ang granite platform, na may kalamangan sa zero-pollution, ay makabuluhang binabawasan ang dalas ng paglilinis at pagpapanatili sa malinis na silid at ang rate ng depekto ng mga produkto, binabawasan ang mga gastos sa pagpapatakbo, at pinahuhusay ang kahusayan sa produksyon at kalidad ng produkto. Kunin ang isang pabrika na may taunang kapasidad ng produksyon na isang milyong wafer bilang isang halimbawa. Matapos gamitin ang mga granite platform, maaari nitong bawasan ang mga pagkalugi na dulot ng polusyon ng mahigit sampung milyong yuan bawat taon, at ang return on investment ay napakalaki.
Ang TOP 5 global wafer fabrication plants ay inabandona ang cast iron at piniling mga granite platform batay sa isang komprehensibong pagsasaalang-alang sa mga kinakailangan para sa mga kapaligiran sa malinis na silid at kahusayan sa produksyon. Ang bentahe ng zero-pollution ng mga granite platform ay nagbibigay ng maaasahang garantiya para sa produksyon ng wafer at nagtutulak sa pagmamanupaktura ng semiconductor patungo sa mas mataas na katumpakan at mas mataas na mga rate ng ani. Sa patuloy na pag-unlad ng teknolohiyang semiconductor, ang mga granite platform ay tiyak na gaganap ng mas mahalagang papel sa hinaharap na paggawa ng wafer.