Ang mga depekto ng mga bahagi ng granite para sa produktong proseso ng paggawa ng semiconductor

Ang mga bahaging granite ay malawakang ginagamit sa proseso ng paggawa ng semiconductor dahil sa kanilang mahusay na mga katangian tulad ng superior surface finish, mataas na stiffness, at mahusay na vibration damping. Ang mga bahaging granite ay mahalaga para sa mga kagamitan sa paggawa ng semiconductor, kabilang ang mga lithography machine, polishing machine, at metrology system dahil nagbibigay ang mga ito ng katumpakan sa pagpoposisyon at katatagan sa panahon ng proseso ng paggawa. Sa kabila ng lahat ng bentahe ng paggamit ng mga bahaging granite, mayroon din silang mga depekto. Sa artikulong ito, tatalakayin natin ang mga depekto ng mga bahaging granite para sa mga produktong proseso ng paggawa ng semiconductor.

Una, ang mga bahagi ng granite ay may mataas na thermal expansion coefficient. Nangangahulugan ito na malaki ang paglawak ng mga ito sa ilalim ng thermal stress, na maaaring magdulot ng mga problema sa proseso ng pagmamanupaktura. Ang proseso ng pagmamanupaktura ng semiconductor ay nangangailangan ng mataas na katumpakan at katumpakan ng dimensiyon na maaaring makompromiso dahil sa thermal stress. Halimbawa, ang deformation ng silicon wafer dahil sa thermal expansion ay maaaring magdulot ng mga problema sa pagkakahanay habang ginagawa ang lithography, na maaaring makaapekto sa kalidad ng semiconductor device.

Pangalawa, ang mga bahagi ng granite ay may mga depekto sa porosity na maaaring magdulot ng mga tagas ng vacuum sa proseso ng paggawa ng semiconductor. Ang pagkakaroon ng hangin o anumang iba pang gas sa sistema ay maaaring magdulot ng kontaminasyon sa ibabaw ng wafer, na magreresulta sa mga depekto na maaaring makaapekto sa pagganap ng semiconductor device. Ang mga inert gas tulad ng argon at helium ay maaaring tumagos sa mga porous na bahagi ng granite at lumikha ng mga bula ng gas na maaaring makagambala sa integridad ng proseso ng vacuum.

Pangatlo, ang mga bahagi ng granite ay may mga microfracture na maaaring makagambala sa katumpakan ng proseso ng pagmamanupaktura. Ang granite ay isang malutong na materyal na maaaring magkaroon ng mga microfracture sa paglipas ng panahon, lalo na kapag nalantad sa patuloy na mga siklo ng stress. Ang pagkakaroon ng mga microfracture ay maaaring humantong sa dimensional instability, na magdudulot ng mga makabuluhang isyu sa panahon ng proseso ng pagmamanupaktura, tulad ng lithography alignment o wafer polishing.

Pang-apat, limitado ang kakayahang umangkop ng mga bahagi ng granite. Ang proseso ng paggawa ng semiconductor ay nangangailangan ng mga kagamitang may kakayahang umangkop na kayang tumanggap ng iba't ibang pagbabago sa proseso. Gayunpaman, ang mga bahagi ng granite ay matibay at hindi maaaring umangkop sa iba't ibang pagbabago sa proseso. Samakatuwid, ang anumang pagbabago sa proseso ng paggawa ay nangangailangan ng pag-alis o pagpapalit ng mga bahagi ng granite, na humahantong sa downtime at nakakaapekto sa produktibidad.

Panglima, ang mga bahagi ng granite ay nangangailangan ng espesyal na paghawak at transportasyon dahil sa kanilang bigat at kahinaan. Ang granite ay isang siksik at mabigat na materyal na nangangailangan ng espesyal na kagamitan sa paghawak tulad ng mga crane at lifter. Bukod pa rito, ang mga bahagi ng granite ay nangangailangan ng maingat na pag-iimpake at transportasyon upang maiwasan ang pinsala habang nagpapadala, na humahantong sa karagdagang gastos at oras.

Bilang konklusyon, ang mga bahagi ng granite ay may ilang mga disbentaha na maaaring makaapekto sa kalidad at produktibidad ng mga produkto sa proseso ng paggawa ng semiconductor. Ang mga depektong ito ay maaaring mabawasan sa pamamagitan ng maingat na paghawak at pagpapanatili ng mga bahagi ng granite, kabilang ang pana-panahong inspeksyon para sa mga microfracture at porosity defect, wastong paglilinis upang maiwasan ang kontaminasyon, at maingat na paghawak habang dinadala. Sa kabila ng mga depekto, ang mga bahagi ng granite ay nananatiling mahalagang bahagi ng proseso ng paggawa ng semiconductor dahil sa kanilang mahusay na surface finish, mataas na stiffness, at mahusay na vibration damping.